Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
В. Киреев, А. Столяров
Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры оборудования для реализации процессов ХОГФ и проведен анализ его возможностей, достоинств и недостатков при осаждении Функциональных слоев микросхем. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.Для инженеров-технологов и научных работников, использующих в своей практической работе химическое осаждение пленок из газовой фазы. Книга может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям вузов.
Thể loại:
Năm:
2006
Nhà xuát bản:
Техносфера
Ngôn ngữ:
russian
Trang:
192
ISBN 10:
5948360393
ISBN 13:
9785948360393
Loạt:
Мир электроники
File:
PDF, 4.13 MB
IPFS:
,
russian, 2006